鍍絡技術轉讓

Ⅰ 國內有沒有做armoloy鍍鉻工藝的或者能達到armoloy鍍鉻工藝條件的

什麼是armoloy?我查遍詞典也未找到啊！現在國內鍍鉻技術並不比國外的差，，我想什麼鍍鉻難題都能解決。

Ⅱ 越王勾踐劍採用了鍍鉻技術，還有金屬記憶功能。這句話是真是假感覺不靠譜，但是很多媒體都用這句話。

肯定是假的啦，傳說中古代的還會飛檐走壁了，這可能嗎？所以說了都是不靠譜的東西我們就當做小說看看不要太認真了哈哈你

Ⅲ 直線導軌鍍鉻技術及什麼時候需要鍍鉻

直線導軌久了都會生銹，很容易影響使用精度，特別類似精密機械、科學儀器、測量設備是不允許出現稍微大點的誤差產生的。別說那個導軌不會生銹，只要你不是真空環境使用，絕對就有生銹的可能。這時候對直線導軌表面特殊處理成為一種不錯的解決方法。

鉻是一種微帶藍色的銀白色金屬，在空氣中極易鈍化，表面形成一層極薄的鈍化膜。鍍鉻層具有很高的硬度；較好的耐熱性；摩擦系小數，特別是干摩擦系數，在所有的金屬中是最低的，所以鍍鉻層具有很好的耐磨性。

對於那些特殊工作環境，比如酸性、鹼性、硫化物等化學性工作間，鍍鉻能達到非常好的效果。鍍鉻層良好的化學穩定性，在鹼、硫化物、硝酸和大多數有機酸中均不發生作用。

還有一種作用於科學儀器的直線導軌經常需要鍍鉻。普通碳素鋼、不銹鋼導軌都程銀色，光的反射里強，而某種環境又不需要光，鍍鉻的作用就顯現了。在常見光范圍，鉻的反射能力約為65%，銀為88%，且鉻耐熱性高，500℃一下不變色，使用時能長久保持其反射能力，非常符合暗環境要求。

Ⅳ 鍍鉻技術的要求是什麼

電鍍工藝技術

簡介:最新推出的技術.該技術系統最新的技術資料,該資料實用性強,每個技術都包含了詳細的工藝原理,製作方法,配方實例及應用場所,是一本不可多得的科研,生產,學習的大規模技術匯編。 以下全部技術。包括全部技術資料，每項技術資料均為正式全文說明書，含技術配方、加工工藝、質量標准等；同時包括發明人、權利要求書、說明書和附圖等。

1、不烘烤防爆熱鍍鋅
2、彩色鍍鉻
3、長金屬管內孔表面化學鍍鎳磷工藝
4、超聲快速熱浸鍍
5、瓷磚表面鍍覆貴金屬的方法
6、大面積一次性精確刷鍍技術
7、單槽法鍍多層鎳工藝
8、低濃度常溫鍍(微孔)鉻添加劑及其應用工藝
9、低碳鋼絲快速酸性光亮鍍銅工藝
10、低溫鍍鐵加離子轟擊擴滲強化技術
11、電鍍錫鉍合金鍍液及其制備方法
12、電解活化助鍍劑法熱鍍鋁鋅合金工藝
13、電爐鋅粉機械鍍鋅工藝
14、電刷鍍法刷鍍鉛—錫—銅減磨耐磨層的鍍液
15、電刷鍍陽極
16、鍍鉻廢槽液濃縮熔融除雜回收法
17、鍍鉻廢水廢渣提鉻除毒法
18、鍍鉻廢水中鉻的回收方法
19、鍍鋁薄膜的常溫快速陽極氧化技術
20、鍍鎳溶液及鍍鎳方法
21、鍍鎳溶液雜質專用處理劑
22、鍍銅合金及其生產方法
23、鍍銅添加劑及其制備方法和在焊絲鍍銅中的應用
24、鍍鋅鋼件表面附著有色鍍層的方法
25、鍍鋅光亮劑主劑及用其組成的光亮劑
26、鍍鋅基合金的鋼板的鉻酸鹽處理方法
27、鍍鋅件表面化學著黑劑
28、鍍鋅噴塑雙層卷焊管的生產工藝、設備及產品
29、鍍鋅三價鉻白色鈍化液
30、鍍鋅添加劑的合成與應用工藝
31、鍍銀浴及使用該鍍銀浴的鍍銀方法
32、鈍化法熱浸鍍鋁及鋁合金工藝
33、多層鎳鐵合金復合塗鍍工藝
34、多稀土系列鍍鉻添加劑及製造工藝
35、防治鍍鉻電解液霧化的方法
36、非金屬流液鍍銅法
37、粉鍍(滲)鋅方法及裝置
38、復合機械鍍鋁鋅工藝
39、復合滲鍍方法
40、干濕法熱鍍鋁鋅合金工藝
41、鋼材和鑄鐵件的熱浸鍍鋁新工藝
42、鋼材熱浸鍍鋁工藝
43、鋼材熱浸鍍鋅鋁系合金用水溶性助鍍劑
44、鋼材熱浸鍍用稀土鋁合金
45、鋼管外表面連續熱鍍鋁方法
46、鋼絲的高耐蝕性的雙浸熱鍍工藝
47、鋼鐵件光亮酸性鍍銅前的預鍍工藝
48、鋼鐵件光亮酸性鍍銅前的預鍍工藝 2
49、鋼鐵熱浸鍍鋁鋅合金工藝
50、鋼鐵製品表麵粉鍍鋅劑
51、鋼製品鍍膜前凈洗工藝
52、高堆積鎳刷鍍溶液
53、高堆積鎳刷鍍溶液及其刷鍍工藝
54、高能級磁控濺射離子鍍技術
55、高效刷鍍耐磨鉻溶液
56、高緻密度和高耐蝕性的化學鎳磷鍍膜工藝
57、工件刷鍍表面活化方法
58、工作時無排水電鍍工藝
59、工作物熱浸鍍錫的加工方法
60、鈷－鎳－磷非晶合金鍍液和鍍層
61、光敏劑誘導的化學鍍鎳方法及其所用鍍液
62、焊絲鍍銅高防銹處理工藝
63、合金鍍液及其製法
64、化學鍍鎳鉻磷非晶態合金的溶液及其鍍覆方法
65、化學鍍鎳－磷合金鍍液及化學鍍工藝
66、化學鍍銅及其鍍浴
67、化學噴鍍鎳專用濃縮液的配製及其使用方法
68、化學性質不穩定金屬工件表面化學鍍鎳工藝
69、環保型高深鍍能力鍍鋅液
70、灰口鑄鐵件鑄造-熱鍍鋅同步工藝
71、回收鍍金屬廢水,製造水處理劑的方法
72、活塞環表面復合鍍工藝
73、機械鍍鋅快速活化工藝
74、冀形管熱鍍鋅工藝和裝置
75、鹼性鍍液電鍍鋅－鎳合金工藝
76、鹼性鋅鎳鍍浴
77、鹼性元素電解鍍銅液
78、膠體膏狀復合刷鍍液
79、金剛石鍍鈦工藝
80、金屬表面鍍覆光亮和高耐蝕性合金層的鍍液和方法
81、金屬表面高溫超聲浸鍍方法
82、金屬材料表面化學鍍鎳方法
83、金屬材料表面化學鍍鎳再套鍍硬鉻的方法
84、金屬長管內表面化學鍍的方法
85、金屬鍍液及其製造方法
86、金屬工件表面鍍滲金剛石工藝
87、金屬結構的假牙電刷鍍工藝
88、金屬熔融鍍槽中輥軸的表面處理方法
89、聚氯乙烯塑料硬片鍍鋁方法
90、絕緣瓷套低溫自催化鍍鎳鍍銅工藝
91、快速鍍鎳光亮劑、製造及其應用
92、快速滾鍍鎳鐵合金的電鍍液及方法
93、寬溫低鉻酐鍍鉻添加劑
94、礦山液壓支柱鍍鋅鎳合金純化工藝
95、離子鍍膜前工件處理工藝及除油、去污清洗劑
96、連續熱鍍鋅機組沉沒輥及穩定輥退鋅溶液
97、量具的一種快速精確鍍鉻修復法
98、鋁的粉末法可控滲鍍
99、鋁及鋁合金的鍍前處理方法
100、鋁型材鍍鈦金工藝
101、氯化鉀鍍鋅液添加劑的製造方法
102、內畫鍍銀工藝品及製作方法
103、納米烘鍍鋅及製作方法
104、鈉鹽鍍鋅極低鉻二次鈍化配方及工藝
105、難焊金屬的預刷鍍釺焊法
106、尼絲紡鍍鋁方法
107、鎳基合金粉的表面化學鍍鎳方法
108、屏蔽法局部鍍銀
109、普通玻璃真空鍍銅合金制茶鏡工藝
110、氣缸套筒內腔鍍鉻工藝
111、青銅鍍液及其制備工藝
112、清除鍍鋅體表面銹斑的方法
113、氰化鍍銀溶液無氰轉化方法
114、熱鍍鋅碳化硅槽及附屬設備
115、熱鍍鋅鋅渣的再生新工藝
116、熱鍍鋅中間合金復合添加劑
117、熱鍍鋅助鍍劑
118、熱浸鍍鋁用水溶性助鍍劑
119、熱浸鍍鋁用葯品後處理劑
120、熱侵鍍鋅合金及其製造方法
121、上加熱鍍鋅法
122、深孔定尺寸鍍鉻裝置及工藝方法
123、刷鍍鐵基組合鍍層的鍍液
124、塑料表面鍍銅提高與樹脂和金屬粘接強度的方法
125、縮二脲無氰鹼性鍍銅方法
126、碳纖維均勻鍍銅工藝
127、提高電刷鍍構件疲勞壽命的方法
128、鐵基置換法鍍銅施鍍助劑
129、鐵錳合金鍍液及施鍍工件的方法
130、鐵氧體音頻磁頭光亮鍍鎳工藝
131、銅或銅合金非電鍍鍍錫的方法
132、銅或銅合金室溫鍍錫工藝
133、銅線鍍錫工藝
134、無電解鍍液的再生方法
135、無電流沉積金的含水鍍液配套液及其應用
136、無刻蝕低溫鐵、鎳、錳、鈦合金鍍電解液
137、無刻蝕低溫鐵錳合金鍍電解液
138、無刻蝕鍍鐵鍍液的配製及維護方法
139、無刻蝕鍍鐵工藝鍍液長期穩定的條件
140、無氰鍍金液和筆內電源鍍金筆的生產方法
141、無氰鍍銅錫合金電解液
142、無氰鍍銅液及無氰鍍銅方法
143、無氰連續鍍銅生產技術
144、稀鉻酸溶液在電解退鍍中的應用
145、稀土低溫鍍鎳催化劑
146、錫－鉍合金鍍浴及使用該鍍浴的電鍍方法
147、錫鎳合金退鍍液
148、錫退鍍液的制備及應用
149、鋅錫合金鍍液及其制備工藝
150、新型反光裝飾材料鍍膜技術
151、新型熱浸鍍用復合稀土鹽助鍍溶劑
152、新型稀土鋅鋁合金鍍層材料及其熱浸鍍工藝
153、一種超大型水泥表面鍍銅的方法
154、一種超微氰鍍鋅光亮劑及其製作方法
155、一種低溫鐵合金電鍍方法及其鍍液
156、一種鍍鉻件保護劑的製造方法
157、一種鍍鉻老化液再生的方法
158、一種鍍鉻添加劑及其應用工藝
159、一種鍍納米氧化鋅膜層的玻璃
160、一種鍍三價鉻鍍液
161、一種鍍通孔的無甲醛電解厚銅製造方法
162、一種鍍氧化鋅膜層的玻璃
163、一種鍍液添加劑及其在錫-鉛合金鍍中的應用
164、一種多功能鹼性鍍鋅光亮劑及其制備方法
165、一種粉末鍍銀鍍料及其配製工藝
166、一種鋼鐵表面離子鍍固體潤滑膜的方法
167、一種高鎳基合金鋼鍍厚銀工藝
168、一種光亮鍍錫-鋅合金電鍍溶液
169、一種環保型金屬合金鍍液
170、一種環保型微晶合金鍍液
171、一種機械鍍鋅工藝
172、一種加厚鍍鉻工藝
173、一種鹼性鍍鋅光亮劑的制備方法
174、一種金屬線材光亮鍍鋅工藝
175、一種可鍛鑄鐵管件的鍍鋅方法及其專用設備
176、一種內覆不銹鋼的鍍鋅水管的製造方法
177、一種納米復合鍍漿料及其制備和電鍍方法
178、一種鎳磷合金非晶鍍方法

Ⅳ 鍍鉻是什麼

鉻是一種微帶藍色的亮白色金屬，通過電解或化學方法在金屬或某些非金屬上鍍上一層回鉻的方法，稱為答鍍鉻。金屬鉻在空氣中極易鈍化，表面形成一層極薄的鈍化膜，從而顯示出貴金屬的性質。

鍍鉻有兩種，第一種是起裝飾作用，外表光亮、耐磨擦性能較好，防銹能力不如鍍鋅，優於氧化。第二種是增加金屬零件的硬度、耐磨性等，這是零件的功能性。

鍍鉻常應用於家電、電子等產品上的的光亮裝飾件，工具，水龍頭等。

(5)鍍絡技術轉讓擴展閱讀：

鉻鍍新發展

鉻鍍層由於具有一系列優良的性能而得到廣泛的應用，特別是隨著機械製造業的發展， 鉻鍍層的用量越來越大。但是傳統的鍍鉻工藝使用的電解液都由劇毒的鉻酐配製。

據報道，在鍍鉻過程中約有三分之二的鉻酐消耗在廢水或廢氣中，只有三分之一左右的鉻酐用於鉻鍍層上。大量的廢水和廢氣對環境造成了嚴重污染。

多年來，盡管加強了對含鉻廢水的回收和處理，但未得到根本解決，另外傳統的鍍鉻工藝還存在不少缺點。針對上述存在的問題，廣大電鍍工作者對鍍鉻工藝做了大量的研究工作。

參考資料來源：網路-鍍鉻

Ⅵ 鍍鉻件如何分級

第一次聽說，鍍鉻件的鉻層厚度可以跟鹽霧試驗達幾級相聯系的。他們之間沒有直接對應關系。通常認為鍍的越厚鹽霧試驗級數越高，這是可以的，但不是絕對的。
你說的鉻層厚0.02-0.05，應該是毫米吧？這個厚度比較厚了，一般都能達到7級以上，但也有例外。我們這邊0.01的都有8級的，也有0.03的4、5級。
我在錢江摩托做這行多年，這兩個<鍍鉻件表面質量驗收規則>和<摩托車零部件鍍鉻通用技術條件>沒聽說過。

Ⅶ 鍍鉻的工藝要求

在鍍鉻過程中陰極電流密度與溫度之間存在著相互依賴的關系。在同一溶液中鍍鉻時，通過調整溫度和電流密度，並控制在適當的范圍內，可以獲得光亮鉻、硬鉻和乳白鉻三種不同性能的鍍鉻層。

在低溫高電流密度區，鉻鍍層呈灰暗色或燒焦，這種鍍層具有網狀裂紋、硬度大、脆性大；高溫低電流密度區，鉻層呈乳白色，這種組織細致、氣孔少，無裂紋，防護性能較好，但硬度低，耐磨性差；中溫中電流密度區或兩者配合較好時，可獲得光亮鍍鉻層，這種鉻層硬度較高，有細而稠密的網狀裂紋。

(7)鍍絡技術轉讓擴展閱讀

①鋼鐵基體銅/鎳/鉻體系工藝流程為：

除油→水洗→浸蝕→水洗→閃鍍氰銅或閃鍍鎳→水洗→酸銅→水洗→亮鎳→水洗→鍍鉻→水洗乾燥。

多層鎳/鉻體系工藝流程為：

除油→水洗→浸蝕→水洗→鍍半光亮鎳→水洗→光亮鎳→水洗→鍍鉻→水洗→乾燥。

②鋅合金基體弱鹼化學除油→水洗→浸稀氫氟酸→水洗→電解除油→水洗→閃鍍氰銅→水洗→光亮鍍銅→光亮鎳→水洗→鍍鉻→水洗→乾燥。

③鋁及鋁合金基體 弱鹼除油→水洗→電解除油→水洗→次浸鋅→溶解浸鋅層→水洗一二次浸鋅→水洗→閃鍍氰銅（或預鍍鎳） →水洗→光亮鍍銅→水洗→光亮鍍鎳→水洗→鍍鉻→水洗→乾燥。

Ⅷ 鍍鉻價格!

請參考：
可以看看 哈爾濱工業大學出版的 《電鍍工藝與技術》 這本書的內容很全面實用
有空也可以上網交流交流
中國電鍍網http://www.zgdian.com.cn/
電鍍論壇http://www.bmgcnet.com/
中國電鍍技術論壇http://www.chinaplating.org/bbs/viewthread.php?tid=341
中國電鍍技術網http://www.chinaplating.org/ （超級推薦這個）
中國電鍍與精飾網http://www.pfoc.cn/

Ⅸ 表面鍍鉻處理有什麼好處

1，鉻是一種微帶藍色的銀白色金屬，相對原子質量51．99，密度6．98～7．21g/cm3，熔點為1875～1920℃，標准電極電位為尤什/c，-0．74V，老」/c，」-0．41V和P甚e+/Cr抖-1．33V，金屬鉻在空氣中極易鈍化，表面形成一層極薄的鈍化膜，從而顯示出貴金屬的性質。
鍍鉻層具有很高的硬度，根據鍍液成分和工藝條件不同，其硬度可在很大范圍400～1200HV內變化。鍍鉻層有較好的耐熱性，在500℃以下加熱，其光澤性、硬度均無明顯變化，溫度大於500℃開始氧化變色，大於700℃硬度開始降低。鍍鉻層的摩擦系小數，特別是干摩擦系數，在所有的金屬中是最低的。所以鍍鉻層具有很好的耐磨性。
鍍鉻層具有良好的化學穩定性，在鹼、硫化物、硝酸和大多數有機酸中均不發生作用，但能溶於氫氯酸（如鹽酸）和熱的硫酸中。
在可見光范圍內，鉻的反射能力約為65%，介於銀（88%）和鎳（55%）之間，且因鉻不變色，使用時能長久保持其反射能力而優於銀和鎳。
2，分類
由於鍍鉻層具有優良的性能，廣泛用作防護一裝飾性鍍層體系的外表層和功能鍍層，在電鍍工業中一直占重要的地位。隨著科學技術的發展和人們對環境保護的日趨重視，在傳統鍍鉻的基礎上相繼發展了微裂紋和微孔鉻、黑鉻、松孔鉻、低濃度鍍鉻、高效率鍍硬鉻、三價鉻鍍鉻、稀土鍍鉻等新工藝，使鍍鉻層的應用范圍進一步擴大。
根據鍍鉻液的組成和性能不同，可將鍍鉻液分為如下幾類。
①普通鍍鉻液 以硫酸根作為催化劑的鍍鉻溶液。鍍液中僅含有鉻酐和硫酸，成分簡單，使用方便，是目前應用最為廣泛的鍍鉻液。鉻酐和硫酸的比例一般控制在Cr03：H2SO4=100：1，鉻酐的濃度在150～450g/L之間變化。根據鉻酐濃度的不同，可分為高濃度（350～500g/L）、中濃度（150～250g/L）和低濃度（50～150g/L）鍍鉻液。習慣上把Cr03250g/L和H2SO42．5g/L的中等濃度鍍鉻液稱為「標准鍍鉻液」，又稱為「萬能鍍鉻液」，用於裝飾及功能性多種鍍鉻。低濃度的鍍鉻液電流效率高，鉻層的硬度也高，但覆蓋能力較差，主要用於功能性電鍍，如鍍硬鉻、耐磨鉻等；高濃度鍍液穩定，導電性好，電解時只需較低的電壓，覆蓋能力較稀溶液好，但電流效率較低，主要用於裝飾性鍍鉻及復雜件鍍鉻。
②復合鍍鉻液 以硫酸和氟硅酸作催化劑的鍍鉻液。氟硅酸的添加，使鍍液的電流效率、覆蓋能力和光亮范圍均比普通鍍鉻液有所改善，如陰極的電流效率可達到20%以上。然而，氟硅酸對陽極和陰極零件鍍不上鉻的部位及鍍槽的鉛襯均有較強的腐蝕作用，必須採取一定的防護措施，其襯里和陽極最好採用鉛一錫合金。此鍍液主要用於滾鍍鉻。
③自動調節鍍鉻液 以硫酸鍶和氟硅酸鉀為催化劑的鍍鉻液。在一定溫度及一定濃度的鉻酸溶液中，硫酸鍶和氟硅酸鉀各自存在著沉澱溶解平衡，並分別有一溶度積常數Ksp，即當溶液中[S042-]或[SiF62-]濃度增大時，相應的離子濃度乘積將大於溶度積常數，過量的S042-或SiF62-便生成SrS04或K2SiF6沉澱而析出；相反，當溶液中[S042-]或[ SiF62-]濃度不足時，槽內的SrS04或K2SiF6沉澱溶解，直至相應的離子濃度乘積等於其溶度積時為止。所以，當鍍液的溫度和鉻酐的濃度一定時，鍍液中[S042-]或[SiF62-]濃度可通過溶解沉澱平衡而自動的調節，並不隨電鍍過程的持續而變化。這類鍍液具有電流效率高（270A），允許電流密度范圍大（高達80～100A/dm2），鍍液的分散能力和覆蓋能力好，沉積速度快（50/-m/h)等優點，故又稱「高速自動調節鍍鉻」。但鍍液的腐蝕性強。
④快速鍍鉻液在普通鍍鉻液基礎上，加入硼酸和氧化鎂，允許使用較高的電流密度，從而提高了沉積速度，所得鍍層的內應力小，與基體的結合力好。
⑤四鉻酸鹽鍍鉻液這類鍍液的鉻酐濃度較高，鍍液中除含有鉻酐和硫酸外，還含有氫氧化鈉和氟化鈉，以提高陰極極化作用。添加糖或醇作為還原劑，以穩定鍍液中的Crs+；添加檸檬酸鈉以掩蔽鐵離子。這類鍍液的主要優點是電流效率高（35%以上），沉積速度快、
鍍液的分散能力好，但鍍液只在室溫下穩定，操作溫度不宜超過24℃，採用高電流密度時需冷卻鍍液；鍍層的光亮性差，硬度較低，鍍後需經拋光才能滿足裝飾鉻的要求。
⑥常溫鍍鉻鍍液由鉻酐和氟化物（NH4F或NaF）組成，也可加入少量的硫酸。這種鍍液的工作溫度（15～25℃）和電流密度（8～12A/dm2）低，沉積速度慢，適用於薄層電鍍。其電流效率和分散能力較高，可用於掛鍍和滾鍍。
⑦低濃度鉻酸鍍鉻鍍液中鉻酐濃度較標准鍍鉻液低5倍，可大大降低對環境的污染。電流效率及鍍層的硬度介於標准鍍鉻液和復合鍍鉻液之間，其覆蓋能力和耐蝕性與高濃度鍍鉻相當。但鍍液的電阻大，槽電壓高，對整流設備要求嚴格，同時鍍液的覆蓋能力有待提高。
⑧三價鉻鍍鉻鍍液中以Cr3+化合物為主鹽，添加絡合劑、導電鹽及添加劑。該工藝消除或降低了環境污染，鍍液的分散能力和覆蓋能力較鉻酸鍍液高，陰極電流效率有所改善；可常溫施鍍；槽壓低；電鍍不受電流中斷的影響。但鍍液對雜質敏感，鍍層的光澤較暗，鍍層厚度為幾微米，並不能隨意增厚；鍍層的硬度低，鍍液成分復雜不利於維護。
⑨稀土鍍鉻液在傳統鍍鉻液的基礎上加入一定量的稀土元素及氟離子。採用稀土元素可降低鉻酐的濃度、拓寬施鍍溫度范圍（10～50℃）及陰極電流密度范圍（5～30A/dm2），降低槽壓，改善鍍層的光亮度及硬度。使鍍鉻生產實現低溫度、低能耗、低污染和高效率，即所謂的「三低一高」鍍鉻工藝。但對於鍍液的穩定性和可靠性，目前尚有不同的看法，尤其是對其機理的研究還有待深入。

3.主要特點
從常用的鉻酸鍍液鍍鉻，與其他單金屬鍍液相比，鍍鉻液雖成分簡單，但鍍鉻過程卻相當復雜，並具有如下特點。
①鍍鉻液的主要成分不是金屬鉻鹽，而是鉻的含氧酸——鉻酸，屬於強酸性鍍液。電鍍過程中，陰極過程復雜，陰極電流大部分消耗在析氫及六價鉻還原為三價鉻兩個副反應上，故鍍鉻的陰極電流效率很低（10%～l8%）。而且有三個異常現象：電流效率隨鉻酐濃度的升高而下降l隨溫度的升高而下降；隨電流密度的增加而升高。
②在鍍鉻液中，必須添加一定量的陰離子，如SO42-、SiF62一、F一等，才能實現金屬鉻的正常沉積。
③鍍鉻液的分散能力很低，對於形狀復雜的零件，需採用象形陽極或輔助陰極，以得到均勻的鍍鉻層。對掛具的要求也比較嚴格。
④鍍鉻需採用較高的陰極電流密度，通常在20A/dm2以上，比一般的鍍種高l0倍以上。由於陰極和陽極大量析出氣體，使鍍液的電阻較大，槽壓升高，對電鍍電源要求高，需採用大於l2V的電源，而其他鍍種使用8V以下的電源即可。
⑤鍍鉻的陽極不用金屬鉻，而採用不溶性陽極。通常使用鉛、鉛一銻合金及鉛一錫合金。鍍液內由於沉積或其他原因而消耗的鉻需靠添加鉻酐來補充。
⑥鍍鉻的操作溫度和陰極電流密度有一定的依賴關系，改變二者關系可獲得不同性能的鉻鍍層。

4.類型及用途
鍍鉻工藝種類眾多，按其用途可作如下分類。
①防護一裝飾性鍍鉻 防護一裝飾性鍍鉻俗稱裝飾鉻，鍍層較薄，光亮美麗，通常作為多層
電鍍的最外層，為達到防護目的，在鋅基或鋼鐵基體上必須先鍍足夠厚的中間層，然後在光亮的中間層上鍍以0．25～0．5μm的薄層鉻。常用的工藝有Cu/Ni/Cr、Ni/Cu/Ni/Cr、Cu—Sn/Cr等。經過拋光的製品表面鍍裝飾鉻後，可以獲得銀藍色的鏡面光澤。在大氣中經久不變色。這類鍍層廣泛用於汽車、自行車、縫紉機、鍾表、儀器儀表、日用五金等零部件的防護與裝飾。經過拋光的裝飾鉻層對光有很高的反射能力，可用作反光鏡。
在多層鎳上鍍微孔或微裂紋鉻，是降低鍍層總厚度，獲得高耐蝕性防護一裝飾體系的重要途徑，也是現代電鍍工藝的發展方向。
②鍍硬鉻（耐磨鉻） 鍍層具有極高的硬度和耐磨性，可延長工件使用壽命，如切削及拉拔工具，各種材料的壓制模及鑄模、軸承、軸、量規、齒輪等，還可用來修復被磨損零件的尺寸公差。鍍硬鉻的厚度一般為5～50μm，也可根據需要而定，有的高達200～800μm。鋼鐵零件鍍硬鉻不需要中間鍍層，如對耐蝕性有特殊要求，也可採用不同的中間鍍層。
③鍍乳白鉻鍍鉻層呈乳白色，光澤度低、韌性好、孔隙低、色澤柔和，硬度比硬鉻和裝飾鉻低，但耐蝕性高，所以常用於量具和儀器面板。為提高其硬度，在乳白色鍍層表面可再鍍覆一層硬鉻，即所謂雙層鉻鍍層，兼有乳白鍍鉻層和硬鉻鍍層的特點，多用於鍍覆既要求耐磨又要求耐腐蝕的零件。
④鍍松孔鉻（多孔鉻） 是利用鉻層本身具有細致裂紋的特點，在鍍硬鉻後再進行機械、化學或電化學松孔處理，使裂紋網進一步加深、加寬。使鉻層表面遍布著較寬的溝紋，不僅具有耐磨鉻的特點，而且能有效地儲存潤滑介質，防止無潤滑運轉，提高工件表面抗摩擦和磨損能力。常用於受重壓的滑動摩擦件表面的鍍覆，如內燃機汽缸筒內腔、活塞環等。
⑤鍍黑鉻黑鉻鍍層色黑具有均勻的光澤，裝飾性好，具有良好消光性；硬度較高（130～350HV），在相同厚度下耐磨性比光亮鎳高2～3倍；其抗蝕性與普通鍍鉻相同，主要取決於中間層的厚度。耐熱性好，在300℃以下不會變色。黑鉻層可以直接鍍覆在鐵、銅、鎳及不銹鋼表面，為提高抗蝕性及裝飾作用，也可用銅、鎳或銅錫合金作底層，在其表面上鍍黑鉻鍍層。黑鉻鍍層常用於鍍覆航空儀表及光學儀器的零部件、太陽能吸收板及日用品的防護與裝飾。

5.電極過程
工業上廣泛使用的鍍鉻液由鉻酐輔以少量的陰離子構成，鍍液中Cr6+的存在形式根據鉻酐濃度的不同而有差異，一般情況（Cr03200～400g/L）下，主要以鉻酸（CrO42-）和重鉻酸（Cr2O72-）形式存在。當pH值小於1時，Cr2072-為主要存在形式；當pH值為2～6時，Cr2O72-與CrO42-存在下述平衡，即
Cr2072-+H20====2H2Cr04-+2CrO]一十2H+
當pH值大於6時，CrO42-為主要存在形式。由此可以看出，鍍鉻電解液中存在的離子有Cr2072-、H+、cro42-和S042-等。實踐證明，除SO42-外，其他離子都可以參加陰極反應，採用示蹤原子法對鉻酸鍍鉻過程的研究表明，鍍鉻層是由六價鉻還原得到的，而不是三價鉻。這也可由鍍鉻液的陰極極化曲線（見圖4-18）得到。
⑴陰極過程
由恆電位法測定的鍍鉻液（含硫酸或不含硫酸）
圖4—18鍍鉻陰極極化曲線
1一由250g/L Cr03鍍鉻溶液中獲得；2一由250g/L CrO3，5g/L H2S04的標准鍍鉻溶液中獲得
陰極極化曲線可知，當鍍液中不含硫酸時（曲線l)，在陰極上僅析氫，不發生任何其他還原反應。當鍍液中含有少量硫酸時（曲線2），陰極極化曲線由幾個線段組成，在不同的曲線段上發生不同的還原反應。
ab段，隨著陰極電流增加，電極電位逐漸負移，陰極上沒有氫氣析出和鉻的生成。陰極區鍍液pH值小於1，離子存在形式主要是Cr2072-，此時的陰極反應為
Cr2O72一+14H++6e_2Cr3++7H20
隨著電極電位不斷負移，b點達到最大值。b點以後，除了Cr2072-還原為Cr3+外，還可觀察到陰極表面有大量氣泡產生，表明H+離子被還原為氫氣。
bc段，同時進行著Cr2072-還原為cr3+和H+還原為H2兩個反應，但在這一段中隨著電極電位負移，電流逐漸下降，表明電極表面狀態發生了變化。膠體膜理論解釋為，由於上述兩個反應的進行，陰極表面附近的H+被大量消耗，pH值迅速升高（pH值大於3時），當生成的Cr3+離子數量達到Cr(OH)3的溶度積時，便與六價鉻生成一層橘黃色的鹼式鉻酸鉻膠體膜Cr(OH)3·Cr(OH)Cr04，覆蓋在陰極表面上，阻礙了電極反應的進行，使得反應速度顯著下降；又由於鍍液中的硫酸對陰極膠體膜有一定溶解作用，使膠體膜的形成和溶解不斷交替進行，致使曲線呈現如段形狀。
由於氫的不斷析出，使陰極區鍍液pH值逐漸增大，促進Cr2072-轉化成HCr04-離子，使HCrO4-離子濃度迅速增加。當電極電位負移到C點時，CrO42-便開始被還原成金屬鉻在陰極上析出，反應方程式為
CrO42-+4H++6e-===Cr+4OH一
由此可以看出，只有當陰極電極電位達到c點以後，金屬鉻才能被還原析出。此時，在陰極上三個反應同時進行，隨著陰極電極電位的負移，陰極電流迅速上升，反應速度加快，生成金屬鉻的主反應占的比重逐漸增大，即隨著陰極電流密度的增大，陰極電流效率增加。⑵陽極過程
鍍鉻所用的陽極是鉛、鉛銻（含銻6%～8%）或鉛錫（含錫6%～8%）合金等不溶性陽極，這是鍍鉻不同於一般鍍種的特點之一。因為在鉻酸電解液中，金屬鉻鍍層是由六價鉻直接還原得到的。而金屬鉻陽極溶解時，卻是以不同價態的離子形式存在，主要是三價鉻的離子形式進入溶液，而且陽極的電流效率接近100%，這將導致三價鉻含量迅速增加。而陰極電流效率只有10%～25%，使得鍍液的組成不穩定。另外，金屬鉻硬而脆，不易加工成各種形狀。
在正常生產中，鉛或鉛合金陽極的表面上生成一層暗褐色的二氧化鉛膜。
Pb+2H2O一4e—PbO2+4H+
這層膜不影響導電，陽極反應仍可正常進行，其電極反應為
2Cr3++7H2O一6e—Cr2O；
一+14H+2H2O一4e—O2↑+4H+
由上述反應可以看出，在陰極上生成的cr3+離子，在陽極上又重新氧化成Cr2072-離子，從而使電解液中Cr3+濃度維持在一定的水平，以保證鍍鉻生產的正常進行。當鍍液中的三價鉻含量過高時，可採用大面積陽極和小面積陰極的方法進行電解處理，以降低鍍液中三價鉻的含量。在生產中一般控制陽極面積：陰極面積=(2：1）～（3：2），即可使Cr3+濃度保持在工藝允許的范圍內。
在不通電時，懸掛於鍍液中的鉛或鉛合金陽極，由於遭受鉻酸浸蝕而在其表面形成導電性很差的黃色鉻酸鉛（PbCr04）膜，使槽電壓升高，嚴重時造成陽極不導電，因此在不生產時，宜將陽極從鍍槽中取出，浸在清水中，還應經常洗刷，除去鉻酸鉛黃膜。若黃膜很牢固，可在鹼液中浸幾天，待膜軟化後，再洗刷除去。此外，鍍鉻液的分散能力和覆蓋能力較差，必須注意陽極的形狀和排布，在電鍍復雜零件時，宜採用象形陽極和輔助陰極。
6.新發展
鉻鍍層由於具有一系列優良的性能而得到廣泛的應用，特別是隨著機械製造業的發展， 鉻鍍層的用量越來越大。但是傳統的鍍鉻工藝使用的電解液都由劇毒的鉻酐配製。據報道，．在鍍鉻過程中約有2/3鉻酐消耗在廢水或廢氣中，只有l/3左右的鉻酐用於鉻鍍層上。大量的廢水和廢氣對環境造成了嚴重污染。多年來，盡管加強了對含鉻廢水的回收和處理，但未得到根本解決，另外傳統的鍍鉻工藝還存在不少缺點。針對上述存在的問題，廣大電鍍工作者對鍍鉻工藝做了大量的研究工作。
⑴低濃度鉻酐鍍鉻工藝
低濃度鉻酐鍍鉻工藝是指鍍鉻液中鉻酐含量在30～60g/L的鍍鉻工藝，鉻酐使用量只有普通標准鍍鉻工藝的l/5～1/8，既減輕了鉻酐對環境的污染，又節約了大量的原材料。低濃度鉻酐鍍鉻工藝組成及操作條件見表4—32。
表4-32低濃度鉻酐鍍鉻工藝組成及操作條件
採用低鉻酐鍍鉻工藝可以獲得裝飾性鉻鍍層和硬鉻鍍層，其光澤性、硬度、結合力以及裂紋等方面，均能滿足質量要求。但有時鍍層表面會出現黃膜或彩色膜，可在5%的硫酸溶液中除去，然後在鹼性溶液中清洗。
低鉻酐鍍鉻液的分散能力比常規鍍鉻電解液好，但深鍍能力比較差，這給形狀復雜的零件帶來了一定困難。同時，電導率下降，槽電壓升高，因而能耗高，鍍液升溫快。低鉻酐鍍鉻的陰極電流效率達到l8%～20%。
由於上述原因，使得低鉻酐鍍鉻工藝受到一定的限制，目前的研究方向集中在尋求新的催化劑，以改善鍍液性能，降低槽電壓。
⑵三價鉻鹽鍍鉻
三價鉻電鍍作為最重要、最直接有效的代六價鉻電鍍工藝，人們對其研究已有一百多年的歷史，但由於電鍍液的穩定性、鉻鍍層的質量等方面始終無法與鉻酸鍍鉻相比，因此一直未能得到大規模的應用。
大多數三價鉻鍍液均為絡合物鍍液，由主鹽、絡合劑、一定量的導電鹽、緩沖劑及少量潤濕劑構成。表4—33列出國內研究的三價鉻鍍液的組成及工藝條件。
表4-33 三價鉻鍍液的組成及工藝條件
1）鍍液中各成分的作用
①主鹽可用三價鉻的氯化物或硫酸鹽，電解液中的鉻含量以20g/L為宜。
②絡合劑一般採用甲酸、乙酸、蘋果酸等有機酸為絡合劑，以甲酸鹽（甲酸鉀或甲酸胺）為好。
③輔助絡合劑選用蟻酸鹽能收到很好的效果，並起穩定劑作用，使鍍液長期使用而不產生沉澱。
④導電鹽鹼金屬或鹼土金屬的氯化物或硫酸鹽都可用作導電鹽，但不宜用硝酸鹽，因硝酸根在電極上放電，給鍍層質量帶來不利影響，常用的有氯化銨、氯化鉀或氯化鈉。銨離子常有特殊作用，有利於得到光亮的鍍層。
⑤溴化物溴離子的加入，能抑制六價鉻生成和氯氣的析出，電解液中六價鉻是極其有害的。
⑥緩沖劑為穩定鍍液pH值，以加入硼酸效果最好。
⑦潤濕劑加入十二烷基硫酸鈉或十二烷基碘酸鈉，能減少鍍層的針孔，從而提高鍍層的質量。
鍍液對金屬雜質比較敏感，如Cu2+、Pb2+、Ni2+、Fe2+、Zn2+等離子，其最高允許含量為：Cu2+0．025g/L，Pb2+0．02g/L，Zn2+0．15g/L，Ni2+0．2g/L，Fe2+1．0g/L，Cr6+0．8g/L，NO3- 0．05g/L。操作時應避免雜質的帶入，並注意帶電人槽。鍍液中若含有少量的雜質，可用小電流（DK l～2A/dm2）電解處理，若含量過高，可用相應的凈化劑處理。
2）三價鉻鹽電鍍的主要特點及存在的問題
三價鉻鹽鍍鉻電解液的最大特點是可以在室溫下操作，陰極電流密度也較低，一般控制在10A/dm2左右，既節約了能源又降低了對設備的投資。
三價鉻的毒性低，消除或降低了環境污染，有利於環保，並且鍍液的陰極極化作用較大，鍍層結晶細致，鍍液的分散能力和深鍍能力都比鉻酸鍍鉻好；陰極電流效率在20%左右。
從三價鉻電解液中獲得的鍍鉻層略帶黃色，不如鉻酸鍍鉻美觀，鍍層結合力較好，內應力較高，且有微裂紋性質。鍍層的最大厚度只能達到3tim左右，而且硬度較低，不能用於鍍硬鉻。
三價鉻鍍鉻不宜鍍厚鉻，其主要原因有以下幾點：
①鍍液pH值，特別是陰極表面附近層的pH值升高導致形成Cr(OH)2膠體，阻礙三價鉻鍍層的繼續增厚；
②Cr3+的水解產物發生羥橋、聚合反應，形成高分子鏈狀凝聚物吸附在陰極，阻礙Cr3+的還原；
③Cr3+還原的中間產物Cr2+的富集，對Cr3+羥橋反應有引發和促進作用；
④持續電解過程中Cr3+的活性絡合物逐步減少和消失。
Sharif等在氨基乙酸體系中採用提高鍍液循環速度、降低pH值、提高活性絡合物濃度等方法可實現以100～300μm/h的速度鍍取三價鉻的厚鍍層；Ibrahim等則在以尿素作絡合劑的三價鉻鍍鉻體系中，通過添加甲醇和甲酸，可以50～100μm/h的速度鍍取三價鉻；Hon9等則採用雙槽電鍍工藝，通過添加三種羧酸作絡合劑，鍍取了50～450μm厚性能良好的三價鉻鍍層；美國商業局和Atotech公司也分別鍍取了厚度l00～450μm的三價鉻鍍層。三價鉻鍍鉻相對六價鉻鍍鉻，容易操作，使用安全，無環境問題。但是存在一次設備投入較大和成本較高的不足。而且用戶習慣了六價鉻的色澤，在色度上有一個適應過程。三價鉻鍍鉻與六價鉻鍍鉻的性能比較見表4-34。
三價鉻電鍍工藝發展至今，國外對裝飾性電鍍工藝研究已經進入逐漸完善成熟的時期，生產應用不斷擴大。但由於進口產品的價格較高、工藝不夠穩定等原因，在國內大規模的推廣應用仍有困難。而在三價鉻鍍硬鉻方面，據報道北美已有超過30%的工廠開始使用三價鉻代替六價鉻來電鍍，國內則尚未見報道。
⑶稀土鍍鉻
20世紀80年代中期，開發了稀土鍍鉻添加劑，主要成分是稀土化合物，在中國已經獲得了廣泛的應用。在鍍鉻電解液中加入少量（1～4g/L）的稀土化合物，可使電解液中鉻酐含量降低到150g/L，並且在較低溫度（30～40℃）下就可以獲得光澤度高的光亮鍍鉻層，陰極電流效率達到22%～26%，顯著高於常規鍍鉻電解液。採用稀土鍍鉻添加劑可以節約大量能源和原材料，同時還大大減輕了鉻酐對環境的污染。稀土鍍鉻工藝規范見表4—26。關於稀土金屬陽離子的作用機理雖然還不能給予完美的解釋，但從實驗現象可知，稀土元素的加入能在陰極上產生特性吸附，改變了陰極膜的性質，使得鉻的臨界析出電位變小，並增加了析氫過電位，從而使電流效率最高；X射線衍射圖譜也證實了加入稀土陽離子後鍍層結晶結構發生一定的變化，使表面晶粒趨於擇優取向，晶粒細化、光亮度增加，同時鍍層的硬度有所提高。
盡管稀土鍍鉻有許多優點，但也有一些有待解決的問題：
①有些稀土添加劑鍍鉻超過5min後，鍍層呈白色而不光亮，有時鍍層上有一層黃膜較難除去，硬度不穩定，外觀也難於達到要求；
②在稀土添加劑中必然引入F一，氟化物過多，鍍件的低電流密度區易產生電化學腐蝕；
③稀土添加劑多為物理混合體系，成分復雜，鍍液具有不可靠和不穩定性；
④鍍液維護困難。
⑷有機添加劑鍍鉻
採用有機添加劑及鹵素釋放劑聯合使用的鍍鉻液被稱為「第三代鍍鉻溶液」，它們的共同特點是：陰極電流效率高達22%～27%，不含F一，不腐蝕基體；覆蓋能力強，HV亦高達1000以上，既可用於鍍硬鉻，也可用於鍍微裂紋鉻，配合雙層或三層鎳工藝，用於汽車或摩托車減振器的電鍍，已開始在機械行業獲得應用。
有機添加劑包括有機羧酸、有機磺酸及其鹽類等。鹵素釋放劑是指碘酸鉀、溴酸鉀、碘化鉀及溴化鉀等。有機添加劑在鍍液中的作用機理尚待查明，一般認為有機物的加入活化了基體金屬，使鍍液的覆蓋能力得到改善；使析氫過電位增加，提高電流效率；並由於有機物的夾帶，形成碳化鉻而使鍍層硬度增大。表4—35列出有機添加劑鍍鉻液的工藝規范。
①烷基磺酸中s/c≥1，電流效率可達27%，HV>1i00。
②含氮有機化合物：煙酸、甘氨酸、異煙酸、吡啶、2一氨基吡啶、3一氯代吡啶、皮考啉酸。
③HEEF(High Efficiency Etch Free）高效能、無低電流區腐蝕，陰極電流效率達25%，900～1000HV。開缸成分為：HEEF25550mL/L，硫酸2．7g/L，溫度55～60℃，電解4～6h，（電壓>6V，陰陽面積比l5：1）。
影響鍍鉻後表面粗糙度的因素
工件表面鍍鉻後的表面粗糙度與以下條件有直接的關系：
1、鍍前基體的表面粗糙度（基體表面粗糙度值越小鍍後表面粗糙度值也小）；
2、鍍液溫度的高低（溫度高鍍後表面粗糙度值就大）；
3、電流密度的大小（電流密度越大鍍後表面粗糙度值就大）；
4、鍍夜濃度（鍍液濃度大鍍後表面粗糙度值就大）；
5、電鍍時間（電鍍時間越長鍍後表面粗糙度值就大）。
裝飾鍍鉻鍍前鍍後表面粗糙度值差別不大，鍍硬鉻鍍前鍍後表面粗糙度值差別大。

Ⅹ 表面處理——鍍鉻

一般要寫明要求.
鍍鉻一般可分為鍍硬鉻和鍍裝飾鉻.鍍硬鉻的要註明鍍層厚度和表面硬度要求.
鍍裝飾性的一般註明厚度和註明"光亮鍍鉻"也就是要求鍍鉻拋光.
為了鍍鉻層與工件更好地結合及加快鍍鉻的時間,一般都會在鍍鉻之前先鍍銅.無論是鍍裝飾鉻還是硬鉻都是這樣的工藝.除非你是在201,202之類的不銹鋼上鍍鉻\鍍鎳,才不用先鍍銅.