光刻机是荷兰人发明的

㈠ 光刻机霸主为何出现在荷兰

是因为研发费用：已经有高起点的ASML每年将营业收入15%用于研发，而2017年在光刻机投入研发费用高达约97亿人民币。

如今只能仰望ASML的尼康和佳能虽然曾经在光刻机上实力强劲，但是高研发费用也让这两家公司犯愁而不得不选择放弃光刻机高端研发。

而ASML在研发费用上另辟蹊径，仗着自己无可取代的90%市场份额占有率，降低光刻机的产能来吸引各方投资。使得光刻机的研发过程不会出现资金断链的情况，而投资方也能得到优先购买权。

(1)光刻机是荷兰人发明的扩展阅读：

光刻相关介绍：

一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、检测等工序。

在传统光学光刻技术逼近工艺极限的情况下，电子束光刻技术将有可能出现在与目前193i为代表的光学曝光技术及EUV技术相匹配的混合光刻中，在实现10nm级光刻中起重要的作用。

㈡ 光刻机技术到底是谁发明的

光刻机技术是法国人NicephoreNiepce发明的。

在早期阶段其功能简单，而且使用的材料也是较为粗糙的，通过材料光照实验发现能够复制一种刻着在油纸上的印痕，而在其出现在玻璃片上后，经过一段时间的日晒，其透光部分的沥青就会变得很硬，但在不透光部分则可以用松香和植物油将其洗掉。

尽管光刻机发明的时间较早，不过在其发明之后，并没有在各行业领域之中被使用，直到第2次世界大战时，该技术应用于印刷电路板，所使用的材料和早期发明时使用的材料也已经有了极大区别。

在塑料板上通过铜线路制作，让电路板得以普及，短期之内就成为了众多电子设备领域中最为关键的材料之一。

光刻机性能指标：

光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。

分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。

对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。

曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。

曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域，光源有汞灯，准分子激光器等。

㈢ 世界上最好的光刻机来自荷兰，为什么不是芯片发达的美国

世界上最顶端的光刻机来自荷兰阿斯麦的极紫外光光刻设备，差不多1.2亿美元一台，还垄断着世界高端光刻机市场，像现在最先进制程的7纳米，有的国家有钱也是买不到的。

那么为什么这种世界高科技光刻机公司不在美国，而在荷兰呢？首先最重要的这种技术并不是美国搞不出来。

四，是美国掌握着世界芯片最顶端的芯片设计技术，光刻机是为芯片服务，如果美国停止设计高端芯片，那么荷兰的高端光刻机毫无用处，产量也是被美国控制着，不过这种优势美国越来越掌握不住了。

总的来说世界最高端的光刻机虽然在荷兰，但是被美国控制着。

㈣ 既然光刻机都是荷兰生产的，为什么三星和台积电还要自己研发工艺

许多人熟悉移动计算机的芯片。新的华为麒麟980和小米的小龙855被认为是世界上最好的CPU之一。虽然这种先进的芯片是华为高通设计的，但都是交给台积电代工生产的。三星的铸造业似乎一直在衰退。说到铸造业，我们不得不提到光刻的关键设备。阿斯梅尔是世界上最大的半导体设备制造商。台积电和三星的高端光刻机大多来自ASML。这让很多网友感到不解：不是所有的光刻机都是从荷兰买的，为什么强大的三星做不到台积电？

但荷兰其实是个小国，为什么这么小的国家能拥有如此顶尖的技术呢？其实，这对其他国家不好，技术垄断，其他国家不高兴，比如美国。要了解这一点，我们首先要了解荷兰公司。阿斯梅尔不是一家自制公司，而是一家来自著名电子制造商飞利浦的独立公司。背后研发实力，还是经费实力一点也不差，可以说是出身名门，背后集中了无数资源和丰富的研发经验。