光刻发明人

㈠ 实用新型专利发明人俞国庆

不是实用新型，是发明。
带有沟槽式源极结构的功率MOS场效应管制造方法
申请回号 CN201310314819.0 申请日 2013.07.25
公开（公告）号 CN104241133A 公开（公告）日 2014.12.24
当前法律状态 实审 有效性 审中
分类号 H01L21/336(2006.01)I; H01L21/28(2006.01)I
申请（专利权）人 俞国庆
地址 215126 江苏省苏州市工业园区第五元素13栋2003室
发明（设计）人 俞国庆; 吴勇军
优先权 2012.07.27 CN 201210262341.7
专利代理机构 答代理人
摘要
本发明涉及带有沟槽式源极结构的功率MOS场效应管制造方法，对单胞阵列中的源极接触区依次采用光刻、刻蚀以及淀积金属层制作工艺，且对单胞阵列中的源极接触区的刻蚀是以同一次光刻图形为掩膜，采用干法刻蚀+湿法腐蚀的组合方式进行，使源极金属层同时接触源极区顶部的横向接触平台和源极区侧部的纵向接触侧面。本发明所述的功率MOS场效应管制造方法，增加源极金属层与源极区的接触面积，从而降低源极金属接触电阻，减少能量损耗，改善器件性能。

㈡ 光刻人名章 和广告地址章用备案吗

根据《国务院关于国家行政机关和企业事业单位社会团体印章管理的规定内》（国发【1999】25号）规定，刻容制公章需经公安机关核准（手续类似于备案）。该规定所称的公章，是指国家机关、社会团体、企业事业单位、民办非企业单位、基金会或者其他组织及其内设机构、派出机构、议事协调机构、非常设机构和个体工商户、村（居）民委员会（以下统称单位或者机构）的规范名称章，以及冠以规范名称的合同、财务、税务、发票、审验等专用章。
你所指的人名章和广告地址章（如果不冠以该单位的规范名称）是私章，不属于公章，不需要经过公安机关核准。
另附：
《浙江省印章刻制治安管理办法》（浙江省人民政府令（第225号））

㈢ 为什么全世界只有荷兰能够制造顶级的光刻机

估计大家都有一些不服气，凭什么荷兰这个盛产郁金香和牛奶的小国会掌握全世界最顶尖的光刻机？中国、美国、俄罗斯、德国和日本等超级大国都没法拥有同等的技术？其实大家只要了解ASML这个公司的发展史就会发现，他们能够达到全世界领先绝非偶然。

和很多公司进行利益捆绑估计很多朋友都会有这样一个疑问，ASML把持着所有的高端光刻机市场，这难道不涉及到垄断问题吗？ASML自然也意识到了这一点，于是它和基本上所有的供应商和同行进行利益捆绑。为了做到这一点，它出了一个相当奇葩的规定，那就是只有投资了ASML，才能获得优先的供货权。

于是出现了这种奇怪的现象，在2009年ASML遇到困难的时候，英特尔、三星和台积电这三个ASML的大客户筹集了52亿美元支援ASML，让其顺利的度过了难关。不过这些公司也并不是没有收益，他们不止可以每年获得分红，还能拿到优先的供货权以及半导体行业的话语权，顺便减少了自己的研发投入，基本上算是一举多得吧。进行利益捆绑的还有ASML的供货商，比如提供顶级镜头的蔡司，提供稳定极紫光源cymer等。

ASML基本上把所有的供应商和大半个半导体圈的顶级公司变成了自己的亲密战友，大家一起吃大锅饭一起获得收益，自然也就没有人会起诉ASML公司垄断了。总的来说ASML的起步就相当高，再加上多年一直深耕光刻机领域，取得这种成绩也无可厚非。现在世界光刻机的第一梯队是ASML，第二梯队是佳能以及尼康，第三梯队才是我们中国的光刻机企业。

不过现在国家已经对半导体行业进行一定的资金和技术的倾斜，虽然短时间内不会有明显的成绩，但是也给相关的企业提振了信心。希望我们国家的相关企业能够再接再厉，在光刻机上取得更多的话语权，这样我们才能够在芯片领域取得更多的突破，否则华为永远不会是最后一个受害者。

㈣ 世界第一个芯片诞生

从1949年到抄1957年，维尔纳·雅各比、杰袭弗里·杜默、西德尼·达林顿、樽井康夫都开发了原型，但现代集成电路是由杰克·基尔比在1958年发明的。其因此荣获2000年诺贝尔物理奖，但同时间也发展出近代实用的集成电路的罗伯特·诺伊斯，却早于1990年就过世。

将电路制造在半导体芯片表面上的集成电路又称薄膜（thin-film）集成电路。另有一种厚膜（thick-film）集成电路（hybrid integrated circuit）由独立半导体设备和被动组件，集成到衬底或线路板所构成的小型化电路。

(4)光刻发明人扩展阅读

晶体管发明并大量生产之后，各式固态半导体组件如二极管、晶体管等大量使用，取代了真空管在电路中的功能与角色。到了20世纪中后期半导体制造技术进步，使得集成电路成为可能。

相对于手工组装电路使用个别的分立电子组件，集成电路可以把很大数量的微晶体管集成到一个小芯片，是一个巨大的进步。集成电路的规模生产能力，可靠性，电路设计的模块化方法确保了快速采用标准化IC代替了设计使用离散晶体管。

㈤ 中国打造全球首台SP光刻机，“中国芯”从此不再求人了吗

近年来，我国的发展速度快到令世人震惊，尤其是基建领域的科技含量，着实让不少海外专家望洋兴叹。但是大家可能不了解，我国的电子科技领域却还一直处于滞后状态！

认为：中国人口众多，人才济济，各领域都有很多后起之秀。世界上很多难于攻克的难题，在中国经过一段时间的努力与坚持都能一一被掌握，所以实现中国芯也是必然的结果，中国近年来不断推出的研发成果，极大的鼓舞了中国人的士气，同时也是让世界看重中国的有力见证！

㈥ 中国的光刻机达到世界先进水平，为什么还有人说中国芯片业依旧前路艰辛

光刻机是什么？
我们知道一个人的身体素质好坏，跟它的心脏有关，光刻机就是所有电子产品的心脏。专业一点说光刻机是一台机器，它可以完成在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上，最后将器件或电路结构临时"复制"到硅片上。

现在他们正在再接再厉，乘胜追击，进行其他各系列产品的研发制作工作，在该领域捷报频传。

2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目"超分辨光刻装备研制"通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片。 10纳米跟世界先进水平7纳米的差距，乐观估计是十年的差距。

目前我国芯片制造技术落后，光刻机水平也不是世界先进水平，但我国科学家是最棒 的，一定会迎头赶上的。

㈦ 发明专利的第一作者与其余作者有什么不同

发明专利的来第一作者与其余自作者（即通讯作者）有以下三个方面的不同：

1、概念不同

①前者是指在创新性作品如科研论文、专利、调研报告等等的署名中对于多个作者共同完成的情况下对作品贡献最大的人；

②后者是指课题的总负责人。

2、职能不同

①前者主要是担保文章的真实性和可靠性；

②后者主要是担负文章可靠性的责任，负责与编辑部的一切通信联系和接受读者的咨询等。

3、好处不同

①前者的好处是一旦文章在专业论文网站或杂志上发表，第一作者将获得业内专业人士的认可；

②后者的好处是能和外界建立更广泛的联系。

㈧ 光刻机的发明会对我们的生活有多大的改变

改变了我国科技企业一直以来的被动局面，在我国的科技企业之中，不得不提的就是华为。作为国内民营500强排名第一的企业，就今年来说营收预测可能达到1000亿美元，在世界所有的电子科技公司中也只有两个完成了这样的成就！由此可以看出现在的华为实力是多么的强大，即便是如此强大的华为，依然在某些方面会被别人牵制。

在光刻机领域的缺失，连华为也不得不低头。毕竟研发的东西不能实现大范围应用也是无用功，于是华为也是将芯片的代工交给了中国台湾的台积电去生产。不过光刻机技术咱们国家也正在研发之中，并且现在来说也是取得了一些成就，就目前的研发速度和状态来看，我们也应该相信即便是外部的技术封锁，靠着我们自己的努力也是能够攻克这道难关。