光刻機是荷蘭人發明的

㈠ 光刻機霸主為何出現在荷蘭

是因為研發費用：已經有高起點的ASML每年將營業收入15%用於研發，而2017年在光刻機投入研發費用高達約97億人民幣。

如今只能仰望ASML的尼康和佳能雖然曾經在光刻機上實力強勁，但是高研發費用也讓這兩家公司犯愁而不得不選擇放棄光刻機高端研發。

而ASML在研發費用上另闢蹊徑，仗著自己無可取代的90%市場份額佔有率，降低光刻機的產能來吸引各方投資。使得光刻機的研發過程不會出現資金斷鏈的情況，而投資方也能得到優先購買權。

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光刻相關介紹：

一般的光刻工藝要經歷矽片表面清洗烘乾、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對准曝光、後烘、顯影、硬烘、刻蝕、檢測等工序。

在傳統光學光刻技術逼近工藝極限的情況下，電子束光刻技術將有可能出現在與目前193i為代表的光學曝光技術及EUV技術相匹配的混合光刻中，在實現10nm級光刻中起重要的作用。

㈡ 光刻機技術到底是誰發明的

光刻機技術是法國人NicephoreNiepce發明的。

在早期階段其功能簡單，而且使用的材料也是較為粗糙的，通過材料光照實驗發現能夠復制一種刻著在油紙上的印痕，而在其出現在玻璃片上後，經過一段時間的日曬，其透光部分的瀝青就會變得很硬，但在不透光部分則可以用松香和植物油將其洗掉。

盡管光刻機發明的時間較早，不過在其發明之後，並沒有在各行業領域之中被使用，直到第2次世界大戰時，該技術應用於印刷電路板，所使用的材料和早期發明時使用的材料也已經有了極大區別。

在塑料板上通過銅線路製作，讓電路板得以普及，短期之內就成為了眾多電子設備領域中最為關鍵的材料之一。

光刻機性能指標：

光刻機的主要性能指標有：支持基片的尺寸范圍，解析度、對准精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產效率等。

解析度是對光刻工藝加工可以達到的最細線條精度的一種描述方式。光刻的解析度受受光源衍射的限制,所以與光源、光刻系統、光刻膠和工藝等各方面的限制。

對准精度是在多層曝光時層間圖案的定位精度。

曝光方式分為接觸接近式、投影式和直寫式。

曝光光源波長分為紫外、深紫外和極紫外區域，光源有汞燈，準分子激光器等。

㈢ 世界上最好的光刻機來自荷蘭，為什麼不是晶元發達的美國

世界上最頂端的光刻機來自荷蘭阿斯麥的極紫外光光刻設備，差不多1.2億美元一台，還壟斷著世界高端光刻機市場，像現在最先進製程的7納米，有的國家有錢也是買不到的。

那麼為什麼這種世界高科技光刻機公司不在美國，而在荷蘭呢？首先最重要的這種技術並不是美國搞不出來。

四，是美國掌握著世界晶元最頂端的晶元設計技術，光刻機是為晶元服務，如果美國停止設計高端晶元，那麼荷蘭的高端光刻機毫無用處，產量也是被美國控制著，不過這種優勢美國越來越掌握不住了。

總的來說世界最高端的光刻機雖然在荷蘭，但是被美國控制著。

㈣ 既然光刻機都是荷蘭生產的，為什麼三星和台積電還要自己研發工藝

許多人熟悉移動計算機的晶元。新的華為麒麟980和小米的小龍855被認為是世界上最好的CPU之一。雖然這種先進的晶元是華為高通設計的，但都是交給台積電代工生產的。三星的鑄造業似乎一直在衰退。說到鑄造業，我們不得不提到光刻的關鍵設備。阿斯梅爾是世界上最大的半導體設備製造商。台積電和三星的高端光刻機大多來自ASML。這讓很多網友感到不解：不是所有的光刻機都是從荷蘭買的，為什麼強大的三星做不到台積電？

但荷蘭其實是個小國，為什麼這么小的國家能擁有如此頂尖的技術呢？其實，這對其他國家不好，技術壟斷，其他國家不高興，比如美國。要了解這一點，我們首先要了解荷蘭公司。阿斯梅爾不是一家自製公司，而是一家來自著名電子製造商飛利浦的獨立公司。背後研發實力，還是經費實力一點也不差，可以說是出身名門，背後集中了無數資源和豐富的研發經驗。