光刻發明人

㈠ 實用新型專利發明人俞國慶

不是實用新型，是發明。
帶有溝槽式源極結構的功率MOS場效應管製造方法
申請回號 CN201310314819.0 申請日 2013.07.25
公開（公告）號 CN104241133A 公開（公告）日 2014.12.24
當前法律狀態 實審 有效性 審中
分類號 H01L21/336(2006.01)I; H01L21/28(2006.01)I
申請（專利權）人 俞國慶
地址 215126 江蘇省蘇州市工業園區第五元素13棟2003室
發明（設計）人 俞國慶; 吳勇軍
優先權 2012.07.27 CN 201210262341.7
專利代理機構 答代理人
摘要
本發明涉及帶有溝槽式源極結構的功率MOS場效應管製造方法，對單胞陣列中的源極接觸區依次採用光刻、刻蝕以及淀積金屬層製作工藝，且對單胞陣列中的源極接觸區的刻蝕是以同一次光刻圖形為掩膜，採用干法刻蝕+濕法腐蝕的組合方式進行，使源極金屬層同時接觸源極區頂部的橫向接觸平台和源極區側部的縱向接觸側面。本發明所述的功率MOS場效應管製造方法，增加源極金屬層與源極區的接觸面積，從而降低源極金屬接觸電阻，減少能量損耗，改善器件性能。

㈡ 光刻人名章 和廣告地址章用備案嗎

根據《國務院關於國家行政機關和企業事業單位社會團體印章管理的規定內》（國發【1999】25號）規定，刻容制公章需經公安機關核准（手續類似於備案）。該規定所稱的公章，是指國家機關、社會團體、企業事業單位、民辦非企業單位、基金會或者其他組織及其內設機構、派出機構、議事協調機構、非常設機構和個體工商戶、村（居）民委員會（以下統稱單位或者機構）的規范名稱章，以及冠以規范名稱的合同、財務、稅務、發票、審驗等專用章。
你所指的人名章和廣告地址章（如果不冠以該單位的規范名稱）是私章，不屬於公章，不需要經過公安機關核准。
另附：
《浙江省印章刻制治安管理辦法》（浙江省人民政府令（第225號））

㈢ 為什麼全世界只有荷蘭能夠製造頂級的光刻機

估計大家都有一些不服氣，憑什麼荷蘭這個盛產鬱金香和牛奶的小國會掌握全世界最頂尖的光刻機？中國、美國、俄羅斯、德國和日本等超級大國都沒法擁有同等的技術？其實大家只要了解ASML這個公司的發展史就會發現，他們能夠達到全世界領先絕非偶然。

和很多公司進行利益捆綁估計很多朋友都會有這樣一個疑問，ASML把持著所有的高端光刻機市場，這難道不涉及到壟斷問題嗎？ASML自然也意識到了這一點，於是它和基本上所有的供應商和同行進行利益捆綁。為了做到這一點，它出了一個相當奇葩的規定，那就是只有投資了ASML，才能獲得優先的供貨權。

於是出現了這種奇怪的現象，在2009年ASML遇到困難的時候，英特爾、三星和台積電這三個ASML的大客戶籌集了52億美元支援ASML，讓其順利的度過了難關。不過這些公司也並不是沒有收益，他們不止可以每年獲得分紅，還能拿到優先的供貨權以及半導體行業的話語權，順便減少了自己的研發投入，基本上算是一舉多得吧。進行利益捆綁的還有ASML的供貨商，比如提供頂級鏡頭的蔡司，提供穩定極紫光源cymer等。

ASML基本上把所有的供應商和大半個半導體圈的頂級公司變成了自己的親密戰友，大家一起吃大鍋飯一起獲得收益，自然也就沒有人會起訴ASML公司壟斷了。總的來說ASML的起步就相當高，再加上多年一直深耕光刻機領域，取得這種成績也無可厚非。現在世界光刻機的第一梯隊是ASML，第二梯隊是佳能以及尼康，第三梯隊才是我們中國的光刻機企業。

不過現在國家已經對半導體行業進行一定的資金和技術的傾斜，雖然短時間內不會有明顯的成績，但是也給相關的企業提振了信心。希望我們國家的相關企業能夠再接再厲，在光刻機上取得更多的話語權，這樣我們才能夠在晶元領域取得更多的突破，否則華為永遠不會是最後一個受害者。

㈣ 世界第一個晶元誕生

從1949年到抄1957年，維爾納·雅各比、傑襲弗里·杜默、西德尼·達林頓、樽井康夫都開發了原型，但現代集成電路是由傑克·基爾比在1958年發明的。其因此榮獲2000年諾貝爾物理獎，但同時間也發展出近代實用的集成電路的羅伯特·諾伊斯，卻早於1990年就過世。

將電路製造在半導體晶元表面上的集成電路又稱薄膜（thin-film）集成電路。另有一種厚膜（thick-film）集成電路（hybrid integrated circuit）由獨立半導體設備和被動組件，集成到襯底或線路板所構成的小型化電路。

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晶體管發明並大量生產之後，各式固態半導體組件如二極體、晶體管等大量使用，取代了真空管在電路中的功能與角色。到了20世紀中後期半導體製造技術進步，使得集成電路成為可能。

相對於手工組裝電路使用個別的分立電子組件，集成電路可以把很大數量的微晶體管集成到一個小晶元，是一個巨大的進步。集成電路的規模生產能力，可靠性，電路設計的模塊化方法確保了快速採用標准化IC代替了設計使用離散晶體管。

㈤ 中國打造全球首台SP光刻機，「中國芯」從此不再求人了嗎

近年來，我國的發展速度快到令世人震驚，尤其是基建領域的科技含量，著實讓不少海外專家望洋興嘆。但是大家可能不了解，我國的電子科技領域卻還一直處於滯後狀態！

認為：中國人口眾多，人才濟濟，各領域都有很多後起之秀。世界上很多難於攻克的難題，在中國經過一段時間的努力與堅持都能一一被掌握，所以實現中國芯也是必然的結果，中國近年來不斷推出的研發成果，極大的鼓舞了中國人的士氣，同時也是讓世界看重中國的有力見證！

㈥ 中國的光刻機達到世界先進水平，為什麼還有人說中國晶元業依舊前路艱辛

光刻機是什麼？
我們知道一個人的身體素質好壞，跟它的心臟有關，光刻機就是所有電子產品的心臟。專業一點說光刻機是一台機器，它可以完成在矽片表面勻膠，然後將掩模版上的圖形轉移光刻膠上，最後將器件或電路結構臨時"復制"到矽片上。

現在他們正在再接再厲，乘勝追擊，進行其他各系列產品的研發製作工作，在該領域捷報頻傳。

2018年11月29日，國家重大科研裝備研製項目"超分辨光刻裝備研製"通過驗收。該光刻機由中國科學院光電技術研究所研製，光刻分辨力達到22納米，結合雙重曝光技術後，未來還可用於製造10納米級別的晶元。 10納米跟世界先進水平7納米的差距，樂觀估計是十年的差距。

目前我國晶元製造技術落後，光刻機水平也不是世界先進水平，但我國科學家是最棒 的，一定會迎頭趕上的。

㈦ 發明專利的第一作者與其餘作者有什麼不同

發明專利的來第一作者與其餘自作者（即通訊作者）有以下三個方面的不同：

1、概念不同

①前者是指在創新性作品如科研論文、專利、調研報告等等的署名中對於多個作者共同完成的情況下對作品貢獻最大的人；

②後者是指課題的總負責人。

2、職能不同

①前者主要是擔保文章的真實性和可靠性；

②後者主要是擔負文章可靠性的責任，負責與編輯部的一切通信聯系和接受讀者的咨詢等。

3、好處不同

①前者的好處是一旦文章在專業論文網站或雜志上發表，第一作者將獲得業內專業人士的認可；

②後者的好處是能和外界建立更廣泛的聯系。

㈧ 光刻機的發明會對我們的生活有多大的改變

改變了我國科技企業一直以來的被動局面，在我國的科技企業之中，不得不提的就是華為。作為國內民營500強排名第一的企業，就今年來說營收預測可能達到1000億美元，在世界所有的電子科技公司中也只有兩個完成了這樣的成就！由此可以看出現在的華為實力是多麼的強大，即便是如此強大的華為，依然在某些方面會被別人牽制。

在光刻機領域的缺失，連華為也不得不低頭。畢竟研發的東西不能實現大范圍應用也是無用功，於是華為也是將晶元的代工交給了中國台灣的台積電去生產。不過光刻機技術咱們國家也正在研發之中，並且現在來說也是取得了一些成就，就目前的研發速度和狀態來看，我們也應該相信即便是外部的技術封鎖，靠著我們自己的努力也是能夠攻克這道難關。